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第413章 计算之光（第2页）

“我们联手，用软件压榨出DUV光刻机的物理极限。让193nm波长的DUV，在不使用EUV的情况下，稳定生产出7nm，甚至5nm的芯片！”

温彼得和马丁对视了一眼。

他们看懂了林远的意图。

这是一笔技术置换。

中国出算力，荷兰出光学硬件。

如果成功，ASML将能通过软件升级，让存量的数千台DUV光刻机焕发第二春，这是一个价值数百亿美金的服务市场。

而且，这不涉及实体设备的出口，处于制裁的灰色地带。

“我们需要验证。”

马丁谨慎地说道，“口说无凭。”

“没问题。”

林远拿出一个加密硬盘，“这里面是我们用AI生成的，针对ASMLNXT:2000i机型的测试掩膜版数据。你们可以去实验室跑一下。”

ASML光刻实验室。

这里是全球最洁净的地方，空气洁净度达到ISOClass1标准。

工程师将林远提供的数据导入光刻机的控制系统。

激光源启动，波长193nm的深紫外光，穿过复杂得如同外星迷宫般的掩膜版，投射到涂满光刻胶的晶圆上。

显影，定影，电子显微镜扫描。

当图像出现在屏幕上时，马丁倒吸了一口凉气。

屏幕上，是一排排整齐的鳍式场效应晶体管结构。

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线条边缘锐利，关键尺寸（CD）均一性极佳。

“线宽……38纳米单次曝光极限。”

马丁喃喃自语，“这已经逼近了瑞利判据的物理极限。”

“如果配合SAQP自对准四重曝光技术，”

旁边的ASML首席科学家补充道，“理论上，我们可以把这就距缩小到10纳米以下。也就是7nm制程。”

“但这需要极高的套刻精度。”

“他们的算法里包含了非线性套刻补偿模型。”

马丁指着数据日志，“你看，他们在计算掩膜版时，已经预判了晶圆在多次曝光过程中的热膨胀和机械形变，并提前做了反向补偿。”

“这是上帝视角。”

马丁转过身，看着站在玻璃窗外的林远，眼中没有了最初的怀疑，只剩下纯粹的技术敬畏。

他知道，ASML引以为傲的光学壁垒，被中国人的算力暴力给凿穿了。

回到会议室，谈判进入了实质性阶段。

这一次，温彼得的态度发生了180度转弯。

“林先生，测试结果令人印象深刻。我们原则上同意成立联合实验室。”

“但是，关于合作模式……”

“双向授权。”

林远直接给出了方案。

“1。联合研发实体：在新加坡成立启明-ASML计算光刻联合实验室。该实验室为独立法人，不受美国法律管辖。”

“2。数据不出境：ASML的光源核心数据，只能在新加坡的离线服务器上使用，不得传输回中国大陆。同样，我们的AI模型核心代码，也只在实验室内运行。”

“3。商业分成：开发出的女娲光刻软件，ASML拥有海外独家销售权，启明联盟拥有中国区独家使用权。销售利润五五分成。”