吕辰说,“如果每一块短路的位置都一样,那就是设计问题。如果位置随机分布,那就是工艺问题。”
诸葛彪眼睛亮了。
他拿起几块废品,用探针台一个一个测,把短路的位置标出来。
一个小时后,结果出来了。
41块芯片,短路的区域几乎完全一致——都在寄存器堆的同一个位置,那两条电源线和地线之间。
“设计规则问题。”
诸葛彪放下探针,长叹一口气,“那两条线的间距,理论上是够的。但实际工艺有偏差,只要稍微过刻蚀一点点,就连上了。”
钱兰在旁边画了一个示意图:“就是说,咱们画版图的时候,把这两条线放得太近了?在图纸上看着没问题,但真正做出来,就有风险。”
“对。”
诸葛彪说,“这叫‘工艺窗口太窄’。理想状态下,5微米间距是安全的。但实际生产中,光刻机有误差,刻蚀有误差,温度有波动,只要有百分之几的偏差,就短路了。”
吕辰看着那张示意图,沉默了几秒。
设计规则问题。
这就是说,不是工艺不行,是版图画得不够好。
有救。
吕辰站起来,“用显微镜看。”
吕辰把一块短路的芯片放在载物台上,调好焦距,眼睛凑到目镜上。
视野里,是密密麻麻的金属走线,横平竖直,整整齐齐。
他沿着电源总线,一点一点地看。
从芯片的左边,看到右边。从上边,看到下边。从电源引脚,看到地引脚。
没有。
没有现明显的“毛刺”
或“凸起”
。
那些不该连的线,并没有连上。
“怪了。”
他直起腰,揉了揉眼睛,“看不出问题。”
诸葛彪凑上去看,也看了半天,同样摇摇头:“确实没有明显的短路点。”
钱兰想了想:“会不会是过刻蚀?”
“过刻蚀?”
吕辰看着她。
“对。”
钱兰说,“光刻的时候,曝光时间太长,或者显影时间太长,该留下的线条被刻掉了,不该留下的线条反而留下了。但那个‘不该留下的线条’,可能细得肉眼看不见。”
吕辰点点头:“那就不是显微镜能看出来的了。”
他沉默了几秒,然后说:“但有一个规律,所有短路的芯片,形态都一样,都集中在寄存器堆。这说明不是随机缺陷,是设计规则问题。”