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第452章 光刻光刻（第5页）

“自动对准，用光电检测。在掩模版和晶圆上，做特殊的光学对准标记，比如光栅，比如十字。用光电管接收信号，当信号达到峰值的时候，就是对准了。”

他顿了顿：“这个思路，可以迁移西军电的雷达跟踪技术。他们做雷达信号处理，有现成的峰值检测算法。”

吕辰眼睛亮了：“秦世襄教授那边？”

“对。”

陈光远说，“我已经和他通过信，他表示愿意合作。”

他又指向工作台部分。

“自动步进，就用你们正在设计的脉冲电机，加上长光所的光栅尺闭环控制。步进精度做到±1微米。步进的参数，比如xy步距、阵列行数列数，可以用二维卡存起来，读卡机自动读取。”

吕辰脑子里飞快地转着。

光电检测自动对准，脉冲电机自动步进，二维卡存储参数……

这不就是一套完整的自动化光刻系统吗？

他看着陈光远：“陈厂长，您这个方案，只改造最核心的对准和步进，不动曝光光源和掩模版架？”

“对。”

陈光远说，“这样风险最小，见效最快。解决了人工对准的不一致性，良率就有希望翻倍。而且可以逐步实施，先做自动对准，再做自动步进。紧急情况，还可以切回手动模式。”

他放下笔，看着吕辰：“小吕，咱们这台光刻机，是我设计的。我知道它哪里行，哪里不行。现在你们做这个脉冲电机，正好可以把它最不行的地方，改过来。”

吕辰沉默了几秒，然后重重地点头。

“陈厂长，我明白了。您的这个改造方案，比我们单纯做脉冲电机，高了一个层次。”

陈光远笑了：“别夸我。我就是天天在车间里看，看得多了，就知道问题在哪。你们做技术的，能把电机做出来，才是真本事。”

钱兰问道：“陈厂长，那您说的监视是指？”

陈光远笑道：“这个你们最清楚，方教授研的光阴极，小吕的方案，方教授已经告诉我了，下一代光刻机集成了那个系统，就能做到实时监控曝光情况。”

诸葛彪感叹道：“那良率怕是能做到6o%以上……”

陈光远笑道：“不只是良率的事，良率6o%以上只是基本的，单从技术主讲，能突破2微米工艺。”

钱兰和诸葛彪都惊呆了：“2微米工艺，能放多少晶体管。”

吕辰道：“诸葛师兄，钱师姐，技术固然重要，但最重要的是效率，机械对准的效率，比起人工对准，起码要翻几个倍，芯片的成本能极度压缩，这就是优势，能让星河计划成长起来的保障。”

陈光远笑道：“李厂长已经去请梁先生，63o5厂的新产线，开春就要建设了，下一代光刻机，已经在长光所开始研，所以你们这个高频脉冲电机，要抓紧了。”

三人感觉压力一下子大了起来。

吕辰感觉心里有一股劲：“陈厂长，我们会加快的。”

窗外，夕阳西下，余晖洒在63o5的崭新厂房上。

这是中国第一座现代化的集成电路工厂。