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第1142章 最精密的学问（第2页）

“掩膜台。”

“硅片台。”

钱院士的呼吸，停了一下。

他当然认得出来这是什么。

这是光刻机的核心架构。

但让他心惊的不是这个架构图本身。

而是图上那些密密麻麻的手写的标注。

全是英文和德文的缩写，夹杂着公式和参数。

“光源：Lpp-euV，功率要求大于25o，能量转换效率大于5%。”

“物镜：13片非球面反射镜，材料，uLe玻璃，表面粗糙度小于o。1纳米。”

“掩膜台：磁悬浮，同步运动精度小于2纳米。”

钱院士的眼睛，越瞪越大。

这些参数，每一个，都像一颗子弹。

精准地打在他几十年的科研认知上。

国内现在连duV都还在理论摸索阶段。

这张图，直接跳到了euV。

而且，给出的指标，比他从国外老同学那里听到的最前沿的实验室数据，还要激进，还要精确。

这根本不是一份方案。

这是一份来自未来的施工图纸。

钱院士的手，下意识地伸过去。

想要抚摸那张图纸。

手指，却在半空中停住了。

有点抖。

他的视线，落在了图纸的一个角落。

那里画着一个反射镜组的截面图。

旁边有一行小字。

“mosi多层膜反射镜，每层厚度3-4纳米，总层数大于8o层。”

老头感觉自己的后脑勺，被人用锤子狠狠砸了一下。

多层反射镜。

这个概念，只在国际最顶级的几个光学实验室里，有过最模糊的设想。

连篇正式的论文都没有。

可这张图上，不仅有。

连材料，厚度，层数，都写得清清楚楚。

就像画图的人，亲手做出来过一样。

还没等他从震惊中缓过来。