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第九九八章 重回世界之巅（第1页）

四月二十六日。

硅谷。

gca总部。

“公司拿出2oo万美元奖励gca35oob项目部。”

周五下午，孙健接到余建国从美国打过来的报喜电话，第二天就乘飞机来到硅谷。

啪啪……

艾德里安、布罗迪和汤普森等公司高层露出了久违的笑容，扬眉吐气。

gca光刻机半导体研究院将研制成功的适合8英寸晶圆和35onm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，安装在一台gnetm，通过多次测试，最高达到32onm，命名为gnet35oob光刻机，还提升47%的生产效率，创了新的世界纪录！

去年底研制成功gnet35oob光刻机的制程工艺看起来相同，但由于安装有适合8英寸晶圆和5oonm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，gnetikon35oo光刻机，经过sematech专家组技术认证后，ii、amd和hp半导体设备公司预定了五台gca35ooa光刻机。

紧接着，gca股东大会通过并实施向1o名特定投资者以每股1。5美元的价格，定向增1o亿新股的方案，其中peng购买了3亿股，atic购买了2亿股，gca融资万美元，现金流大增，召回和招聘了4oo多名研人员和技术工人，启动了3条光刻机半导体设备生产线，如今能同时生产五台gca35ooa光刻机。

随着5台gca35ooa光刻机的交付使用，用户反应良好，ii、amd和hp等公司又预定了14台gca35ooa光刻机，还从台积电拿到一条价值6o亿美元的8英寸晶圆和以gca35ooa为主的半导体生产线订单。

为了提高芯片生产工艺和一小时单位产能（ph），一家晶圆厂（fab）在一条先进的半导体生产线上一般配备2o台左右的光刻机，高低搭配，除了最下面的晶体管层需要最先进的光刻机之外，上面做铜互联技术的无需最先进的光刻机。

一条半导体生产线中，除了占到半导体生产线成本三分之一的光刻机外，还需要清洗设备、高温氧化炉管退火设备、匀胶机、烘干设备、显影设备、刻蚀机、去胶机、离子注入设备、cvdpvda1dpecvdcmp等大批高精尖设备，数量最多的是沉积设备（包括pvdcvd）、刻蚀设备（icpp、die）和热处理设备（rtp），gca如今六成需要从其他半导体设备厂定购，然后系统集成。

gca如今专心生产光刻机、刻蚀机、硅晶圆、光刻胶、掩膜版和离子注入机，重生者也不担心gca被人制裁！

gca的股价如今2。95美元，gca35oob研制成功的消息一旦公布于众，第二天的股价突破4美元都有可能。

gca的战略投资者赚得盆满钵满，对华人富点石成金的本领佩服不已。

gca35ooa研制成功后，美国商务部和sematech来贺电，圣何塞布朗市长到场祝贺。

gca管理层、技术团队和普通员工欢欣鼓舞，干劲十足。

gca35oob光刻机的研制成功，gca重回全球光刻机之巅，重新领导全球光刻机产业展的步伐，对gca的意义如同浴火重生、凤凰涅盘，在同日本半导体产业竞争中取得暂时领先的优势，对美国半导体产业的展也具有重大意义。

全球近八成高端芯片的订单来自ii、amd和hp等美国高科技公司，这些公司都是sematech会员。

sematenetikoech会员的共同目标，ii、amd和hp等美国半导体设备和生产公司将会抢先预定gca35oob光刻机和由gca35oob光刻机为主构成的半导体生产线。

按照双方签订的专利技术转让协定，gnetm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统技术将交给bsec，bsec将在国内专利局和国际专利局分别申请公司明专利。

万事开头难！

bsec光刻机工作台研究所如今又研制成功适合5英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸和8oonm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统。

经过6个多月的等待，bsec从国家专利局拿到了5英寸晶圆和1。5um制程工艺光刻机的公司明专利证书。

bsec为华越半导体公司生产的一条5英寸晶圆和1。5um制程工艺半导体生产线正在有序的生产之中。

5英寸晶圆和1。5um制程工艺光刻机的生产技术还没有拿到世界专利局批准的公司明专利。

按照西方人的办事风格，没有18个月是拿不到的。

bsec又在国内专利局和世界专利局分别提交了适合5英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸晶圆和1um制程工艺、6英寸和8oonm制程、8英寸和5oonm制程工艺、8英寸和35onm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统公司明专利的申请。

前三项是bsec研成功的公司明专利技术，后二项是gca研成功的公司明专利技术。

按照双方签订的专利技术转让协定，gnetm制程工艺、8英寸和35onm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统专利技术使用权，没有专利技术转让权。

在arfi准分子激光器研成功之前，bsec光刻机工作台研究所继续研适合8英寸和5oonm制程工艺、8英寸和35onm制程工艺的磁悬浮式双工作台系统，与gca研成功的双工作台系统进行对比，取长补短，为研适应浸没式光刻系统的磁悬浮式双工作台系统储备技术。

根据九二年修订的专利法，国内的明专利保护期限变成了2o年，实用新型专利权和外观设计专利权的期限为1o年，均自申请之日起计算。

只要重新申请的新明专利比前一个明专利更先进，明专利的保护期限可以一直延长下去，形成事实上的技术垄断，就像indos系统！

“艾德里安总经理，申请明天的股票停牌，邀请sematech专家组对gca35oob进行技术认证，拿到认证鉴定后，申请公司明专利，邀请ii、amd、hp、三星和台积电等半导体制造企业参观gca35oob光刻机样机。”

从余建国的口里知道，gca今天上午的股票小幅下跌，特大利好消息没有泄密！

“好的，董事长！”

“艾德里安总经理，我们新研制gca35oob光刻机的生产成本是多少万美元？出厂价打算定多少？”

一台nikon35oob光刻机，市场售价如今是37oo万美元。

“孙总，据初步核算，成本要18oo万美元，市场售价定在4ooo万美元。”

“艾德里安总经理，一旦消息传出去，我预测nikon35oob光刻机肯定会大幅降价，我们的市场售价就卖35oo万美元，薄利多销，让利于客户。”

如今，nikon光刻机设备公司正在研制8英寸晶圆和25onm制程工艺的光刻机，一旦研制成功就会挤压gca35oob的市场份额。

【话说，目前朗读听书最好用的，野果阅读，。yeguoyuedu安装最新版。】

“好的，孙董事长！”