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第428章 上门投靠（第1页）
江州，启明防务技术研究院，地下二层。
光子工厂的基建工程正在疯狂推进。
为了隔离辐射，光源被安放在厚达两米的混凝土掩体中。而光刻机车间，在距离掩体50米之外的地方。
这意味着，这束宝贵的193nm激光，必须穿过一条长达50米的真空管道，经过至少8次反射，才能到达光刻机的曝光台。
第一次联调测试。
“光源功率：100W，发射！”
丁院士下达指令。
掩体内的SSMB光源发出幽幽蓝光。
但在50米外的光刻机入口处，功率计的读数却让所有人倒吸一口凉气。
接收功率：0。5W。
损耗率：99。5%。
“光呢？”
王海冰咆哮道，“99。5瓦的能量去哪了？被鬼吃了吗？”
“被镜子吃了。”
张教授长春光机所拿着一片刚刚拆下来的反射镜，脸色惨白。
镜片中心，原本光洁的膜层已经发黑、起泡，仿佛被烟头烫过一样。
“林董，我们遇到了反射率灾难。”
“193nm光子能量太高。普通的铝膜反射率只有90%。经过8次反射，0。9的8次方，只剩下43%。”
“这还是理论值。实际上，镜片吸收了能量后发热，膜层结构破坏，反射率会进一步雪崩。”
“剩下的99。5瓦能量，全部变成了热，烧毁了我们的光学系统。”
林远看着那片废镜。
“我们需要更高的反射率。”
“多少？”
“99。9%。”
张教授伸出三根手指，“少一个9，光就送不到。”
要做到99。9%的反射率，金属膜铝、银是不可能的，必须用全介质多层膜。
利用光的干涉原理，镀上几十层高折射率和低折射率交替的材料，让反射光叠加增强。
“材料选什么？”
林远问。
“对于193nm，只能选氟化物。”
张教授在白板上写下化学式，“氟化镧LaF3做高折射率，氟化镁MgF2做低折射率。”
“但是，氟化物有个致命弱点应力大，易裂。”
“我们要镀60层膜，总厚度3微米。这层膜的内应力，足以把基底玻璃拉弯，甚至直接崩裂。”
实验室里，IBS镀膜机再次启动。
“第一炉，60层LaF3MgF2。”
出炉。
“咔嚓。”
镜片还没拿稳，膜层就像干裂的土地一样，碎成了一片片鱼鳞。
“张力太大了。”
张教授摇头，“膜层想收缩，基底不让崩了。”
“那就反向补偿。”
林远提出了方案。
“在镜片的背面，也镀一层膜！”
“这层膜不需要光学性能，只需要它的应力与正面膜层相反且相等。”
