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第460章 极限的边界（第2页）

诸葛彪也点点头：“有道理啊，咱们是走到悬崖边上了，怪不得风大，退一步，海阔天空。”

钱兰道：“是退一步宽。”

她走回黑板，在刚才那个坐标系旁边，写下两个句话：设计上后退半步，工艺上向前一步。

“咱们双管齐下。”

她说，“设计上，给工艺留出余量。缩窄设计规则，把最小间距从5微米放宽到6微米。关键晶体管做双倍尺寸，提高抗过压能力。长走线上插入中继器，减少延迟。这些改动，会让芯片面积大一点，功耗高一点，但换来的，是芯片能在更宽的工艺波动下正常工作。”

她顿了顿：“工艺这边，优化氧化工艺，降低生长率，提高氧化层致密性。调整掺杂浓度，精确控制扩散炉的温度和时间。提升洁净度，查漏补缺，看有没有哪个环节的过滤器失效了。把工艺的波动范围收窄，让更多的芯片落在设计能容忍的区域里。”

吕辰明白，这不是认输，这是成熟。

第一次流片，凭着一股冲劲，把设计做到极致，把所有参数都推到极限。

然后被现实狠狠地打回来，才现“极限”

不是用来追求的，是用来敬畏的。

真正的工程师，不是能把设计做得多极限，而是能在极限和可靠之间，找到那个平衡点。

他道：“好，那就先改版图，重新流片。”

诸葛彪点点头：“按这个思路改，面积可能会增大15%到2o%，晶体管数量多两三百个。但良率……至少能到3o%以上。”

“3o%也够了。”

钱兰说，“比8%强。”

三个人对视一眼，都笑了。

那笑里没有沮丧，只有一种说不清的轻松，终于找到了真正的病根，终于知道该怎么治。

接下来的日子，三个人开始了漫长而繁琐的修改工作。

先是缩窄设计规则。

吕辰把原来的版图拿出来，一条线一条线地量。

那些间距刚好卡在5微米的地方，全部标红。

电源总线旁边的信号线，寄存器堆里密密麻麻的走线，时钟网络的分支点……，整整标了四十七处。

“这四十七处，全部改到6微米以上。”

他对诸葛彪说。

诸葛彪看着那张标满红点的图纸，倒吸一口气：“全改？那面积得扩大多少？”

“扩大就扩大。”

吕辰说，“宁可大一点，也不能再冒短路的险。”

诸葛彪点点头，没再说什么，拿起铅笔开始改。

这是一件磨人的细活。

不是简单地“把线往外挪一挪”

，而是牵一而动全身。

一条线动了，周围的线可能都得动，布局可能得重新排，甚至整个模块的尺寸都可能变化。

诸葛彪趴在绘图桌前，拿着放大镜，一笔一笔地挪。有时候挪一条线，得花半个小时。